Российские учёные создали микросхему толщиной в молекулу
Ксения Шестакова — 14.08.2017 в 13:04

Специалисты НИТУ «МИСиС» при поддержке коллег из Технологического университета Квинсленда (Австралия), Пекинского транспортного университета (КНР) и Национального института материаловедения (Япония) создали самый тонкий проводник в мире – микросхему, толщина которой – одна молекула. Описание разработки приводят «Известия».

Сначала микросхему смоделировали с помощью кластера суперкомпьютерного кластера Cherry, находящегося в НИТУ «МИСиС», а затем создали физический опытный образец на основе нитрида бора. Образец имеет запрещённые зоны, которые определяют, является ли материал проводником, диэлектриком или полупроводником. Фактически микросхему «нарисовали» кислородом поверх нитрида бора, и её невозможно увидеть невооруженным глазом.

Изменяя концентрацию кислорода, разработчики смогли менять ширину запрещённых зон. В результате материал с контролируемой запрещённой зоной можно получить быстро и дешево.

Учёные признают: до запуска массового производства сверхтонких микросхем пройдут годы. Однако в будущем технология позволит уменьшить размеры микросхем в тысячи раз, откроет новые возможности для создания высокопроизводительных систем и носимой электроники. Кроме того, микросхемы наноразмера потребляют минимум энергии, и это серьёзно расширяет сферу их применения: от очков дополненной реальности до биосовместимой электроники.